影響時(shí)間門(mén)控拉曼光譜儀使用的因素有哪些？

　　時(shí)間門(mén)控拉曼光譜儀在使用中，避免不了出現分析質(zhì)量的問(wèn)題，具體因素有哪些，下面我們來(lái)分析下：
 

　　1、系統誤差的來(lái)源：
 

　　(1)標樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不*相同時(shí)，可能引起基體線(xiàn)和分析線(xiàn)的強度改變，從而引入誤差。
 

　　(2)標樣和試樣的物理性能不*相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線(xiàn)會(huì )有差別從而產(chǎn)生系統誤差。
 

　　(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過(guò)退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結構不相同時(shí)，測出的數據會(huì )有所差別。
 

　　(4)未知元素譜線(xiàn)的重疊干擾。如熔煉過(guò)程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統誤差。
 

　　(5)要消除系統誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規定要求。為了檢查系統誤差，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對結果。
 

　　2、偶然誤差的來(lái)源：
 

　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：
 

　　(1)熔煉過(guò)程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
 

　　(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
 

　　(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過(guò)熱、試樣磨面放置時(shí)間太長(cháng)和壓上指紋等因素。
 

　　(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復多次分析來(lái)降低分析誤差。